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国内光刻机技术取得重大突破

激光刻蚀技术应用于各行各业,光刻机在各行业表现也日渐重要,对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘印入’基底材料，其核心技术长期被国外激光公司等把持。国内从事密码芯片研发的设计公司，一般研发的芯片投入生产时，130纳米的芯片开模就是120万元人民币，而28纳米的芯片开模费用高达上千万元人民币。而这一局面由于国内光刻机的技术突破将被改变.
据介绍，为了将设计图形制作到硅片上，并在2至3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台，在高速运动下需达到2纳米（相当于头发丝直径的三万分之一）的运动精度。因此光刻机双工件台又被称为“超精密技术皇冠上的明珠”。
专家组认为，历经5年攻关，研究团队研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机，关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台水平，并获得专利授权122项，为后续产品研发和产业化打下了坚实基础。

点击次数：5483  发布日期：2016-05-01  【打印此页】  【关闭】
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